蒸發(fā)鍍膜機的性能特點

　　現(xiàn)在我們的蒸發(fā)鍍膜機為有機無機多源有氣相分子沉積系統(tǒng)，其在高真空條件下，通過加熱材料的方法，在襯底上沉積各種化合物、混合物單層或多層膜，具有高真空多源有機、金屬電阻蒸發(fā)及手套箱保護條件下器件后期制作。

　　蒸發(fā)鍍膜機主要用于有機半導體材料的物理化學性能 研究實驗、有機半導體器件的原理研究實驗也可用于普通金屬電極蒸發(fā)鍍膜研究;真空室采用優(yōu)質不銹鋼，氬弧焊接、采用先進鈍化處理工藝，前滑開門及后開門(均采用鋁門)，前后門上均配觀察窗，并預留有手套箱對接接口。

　　蒸發(fā)鍍膜機的基片臺尺寸：120mm×120mm，基片臺加熱：室溫～300℃;旋轉速度0-20轉/分鐘可調，基片臺可旋轉及升降，旋轉升降采用金屬焊接波紋管+進絲杠+進光軸+直線導軌，樣品臺升降旋轉自如，無抖動。