pvd真空電鍍的功能原理怎么樣

　　pvd真空電鍍的原理主要是物理氣相沉積，其是當前國際上廣泛應用的先進的表面處理技術。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時把蒸發物或其反應物沉積在基材上。

　　pvd真空電鍍具有沉積速度快和表面清潔的特點，特別具有膜層附著力強、繞性好、可鍍材料廣泛等優點。 采用全球先進的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設備，及在此基礎之上與國際專家的工藝創新。憑借在裝飾鍍行業十多年的寶貴經驗，為客戶提供適合的涂層加工方案。

　　pvd真空電鍍抗氧化，抗腐蝕，耐腐蝕，化學性能穩定，抗酸。手機外殼PVD鍍膜抵抗力，鍍膜外殼容易清除油漆和指紋。在強烈的陽光，咸的濕地和城市環境下，都不失去光澤，不氧化，不褪色，不脫落。高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷。可鍍材料廣泛，與基體結合力強。