PVD鍍膜三大分類：真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空蒸發鍍膜。

　　PVD鍍膜所使用的設備：通常叫做PVD真空鍍膜設備或者是PVD真空鍍膜機

　　PVD鍍膜原理：處在真空環境下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用對蒸發源的加熱或者利用輝光放電、離子轟擊使鍍制材料沉積在需鍍制的產品表面。

　　PVD鍍膜能夠鍍制的膜層：它能夠鍍制各種單一的金屬膜層(金、銀、鋁、鋅、鈦等)，氧化物膜層(TiO等)，碳化物膜層(TiC、TiCN等)，氮化物膜層(TiN、CrN、TiAiN等)，膜層顏色可以是單色也可以鍍制七彩色。膜層厚度為微米級，真空鍍膜的厚度較薄，鍍制的膜層幾乎不影響產品的尺寸。

　　真空濺射鍍膜：

　　輝光放電時濺射技術的基礎，濺射一般都是在輝光放電過程中產生的，濺射是用帶有高動能的粒子或者離子束轟擊固體表面，使靠近固體表面的原子獲得入射粒子所 ,帶能量的一部分而脫離固體進入真空并沉積在產品上。

　　影響濺射效果的因素：1.靶材;2.轟擊離子的質量;3.轟擊離子的能量;4.轟擊原子的入射角。

　　真空離子鍍膜：

　　離子鍍是在蒸發鍍和濺射鍍基礎上產生的新鍍膜技術，真空PVD鍍膜過程都是在等離子體中進行的，離子鍍可以獲得優異性能的膜層，其膜層特點：

　　1.表面光潔度好，沉積的厚度可以嚴格控制;

　　2.膜的附著力強，結合力高;

　　3.膜層厚度均勻，無邊界效應;

　　4.膜層的致密度高。

　　真空蒸發鍍膜：

　　在真空室內，對蒸發源的薄膜原材料進行加熱從而形成原子或者分子蒸氣流入射到產品表面凝結形成固態薄膜的方法。

　　優點：蒸發設備較便宜，操作簡單，成膜速率快，鍍制的膜層純度高、質量好并且可以控制厚度;

　　缺點：膜層附著力較低，工藝重復性不夠好，不容易獲得結晶結構的薄膜層。

　　對于這三種PVD鍍膜工藝來說，不同的產品需要選擇不同的工藝，配置專門的設備。