真空鍍膜是由專用真空鍍膜機完成的,其工作流程及原理為:基片通過鍍膜機的機械手的搬運,進入到鍍膜機的真空腔體里,經過高壓電離的氬離子在強電場及強磁場的作用下,產生高速運動,轟擊靶材表面,激發出的金屬離子附著在基片表面,形成一層反射膜。

　　基礎的真空鍍膜知識：

　　1.真空:用真空泵抽掉容器中的氣體,使空間內低于一個大氣壓的氣體狀態，也就是該空間的氣體分子密度低于該地區大氣壓的氣體分子密度。

　　2.真空中殘存氣體的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用壓力表示單位(Pa)

　　3.1Pa就是1m2面積上作用1N的壓力。1大氣壓=1.03×105Pa

　　4.壓升率：單位時間內，真空度降低的速率。單位：Pa/h

　　5.真空泵的抽氣簡稱抽速)(單位：L/S) :當泵裝有標準試驗罩并按規定條件工作時，從試驗罩流過的氣體流量與在試驗罩上指定位置測得的平衡壓力之比。

　　6.極限真空度：(單位：Pa):在規定條件工作，在不引入氣體正常工作的情況下，趨向平穩的最低壓強。