多靶離子束濺射鍍膜機(jī)是研究超導(dǎo)、類金剛石、光學(xué)、磁性等高質(zhì)量薄膜和材料表面改性的光機(jī)一體化的現(xiàn)代化鍍膜設(shè)備。該機(jī)采用四靶、雙離子源、離子源為考夫曼源。其原理是利用具有1500ev能量的正離子束或中性粒子轟擊靶材料，使材料表面的原子和分子從母材中濺射出來，沉積在基片上成膜。可鍍制任意材料，包括金屬、合金、超導(dǎo)體、半導(dǎo)體、絕緣體等。該機(jī)采用80年代剛剛發(fā)展起來的離子束濺射技術(shù)，利用雙離子源、主槍，對靶材轟擊，輔槍在鍍前對基片進(jìn)行清洗，增強(qiáng)基片的活性，提高結(jié)合力及純度。沉積過程中低能轟擊膜，增強(qiáng)沉積原子表面擴(kuò)散和遷移，減少薄膜結(jié)晶結(jié)的缺陷，并配有對基片處理的各種功能，如加熱、冷卻、旋轉(zhuǎn)、激光處理、掩膜等。引出柵φ25mm離子能量，1500ev能量束流大于80mA。

　　多靶離子束濺射鍍膜機(jī)系統(tǒng)在高精度光學(xué)薄膜沉積應(yīng)用中處于領(lǐng)先地位。多靶離子束濺射鍍膜機(jī)是當(dāng)今僅存的在同一系統(tǒng)可互換使用行星型，簡單旋轉(zhuǎn)型或可翻轉(zhuǎn)型基片裝置的系統(tǒng)。

　　在通信應(yīng)用上，能用于沉積高產(chǎn)值的200，100和50GHz 具有窄通帶, 寬截止頻帶, 高隔離度, 低插損特性的DWDM濾波器，滿足最為嚴(yán)格的性能指標(biāo)。在其它高精度光學(xué)應(yīng)用上，多靶離子束濺射鍍膜機(jī)能用于沉積增透膜，復(fù)雜的非四分之一波長膜層，以及吸收和散射低于百萬分位的超低損耗激光鏡。